高溫節(jié)能馬弗爐|熱處理爐|產(chǎn)品知識(shí) 馬弗爐技術(shù)參數(shù)： 溫度范圍: 室溫～1000℃ 測(cè)溫精度: ±3℃ 控溫精度: ±10℃（在250℃～1000℃范圍內(nèi)） 熱電偶: 鎳鉻-鎳硅熱電偶(分度號(hào)K) 升溫時(shí)間: 室溫～920℃≤20min 灰分測(cè)定精密度: 符合GB/T212中4.4規(guī)定 電源: AC220V±22V 50Hz±1Hz 揮發(fā)分測(cè)定精密度: 符合GB/T212中5.6規(guī)定 功率: 3.5kw





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真空箱式馬弗爐是一種具有真空環(huán)境的箱式馬弗爐，它通常由爐體、加熱元件、溫度控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和操作控制系統(tǒng)等組成， 真空箱式馬弗爐的爐體通常由高溫材料制成，能夠承受高溫環(huán)境下的加熱，加熱元件一般采用電阻絲或電磁加熱器，可以提供高溫加熱，溫度控制系統(tǒng)可以監(jiān)測(cè)和控制爐內(nèi)的溫度，確保溫度的穩(wěn)定性和性， 真空系統(tǒng)用于創(chuàng)建和維持爐內(nèi)的真空環(huán)境，它通常由真空泵、真空計(jì)和氣體控制系統(tǒng)等組成，真空泵可以抽取爐內(nèi)的空氣，使?fàn)t內(nèi)形成真空，真空計(jì)用于監(jiān)測(cè)爐內(nèi)的真空度，氣體控制系統(tǒng)可以控制爐內(nèi)的氣氛組成，例如可以通過(guò)注入氮?dú)饣蚱渌栊詺怏w來(lái)控制爐內(nèi)的氣氛， 操作控制系統(tǒng)用于監(jiān)控和控制整個(gè)馬弗爐的運(yùn)行，它通常包括觸摸屏界面和PLC控制器等，可以實(shí)現(xiàn)溫度設(shè)定、時(shí)間設(shè)定、真空度設(shè)定等功能， 真空箱式馬弗爐廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、玻璃等材料的高溫處理和燒結(jié)過(guò)程中，它具有溫度均勻性好、加熱速度快、真空度高、氣氛控制等優(yōu)點(diǎn)，適用于對(duì)材料進(jìn)行高溫處理和燒結(jié)的工藝要求較高的應(yīng)用領(lǐng)域